Estados Unidos y El Salvador han dado un paso importante para impulsar la innovación y proteger la propiedad intelectual con la firma de un memorando de entendimiento entre la Oficina de Patentes y Marcas de EE. UU. (USPTO) y el Centro Nacional de Registros de El Salvador (CNR). Este nuevo acuerdo introduce un proceso acelerado que permite a los solicitantes de patentes elegibles obtener rápidamente una patente en El Salvador, aprovechando una patente ya otorgada por la USPTO.
El acuerdo para implementar una nueva iniciativa de colaboración para acelerar la concesión de solicitudes de patentes (Accelerated Patent Grant; APG) fue suscrito remotamente por Kathi Vidal, Subsecretaria de Comercio para Propiedad Intelectual y directora de la Oficina de Patentes y Marcas Registradas de EE. UU. (USPTO), y Camilo Trigueros, Director Ejecutivo del Centro Nacional de Registros de El Salvador (CNR).
El Embajador William Duncan y el Director Ejecutivo del CNR Trigueros firmaron este martes 20 de agosto en las instalaciones de la institución salvadoreña. Durante la firma, el Embajador reconoció que la iniciativa APG reduce la carga administrativa para las oficinas de patentes locales. “Esto permitirá a las empresas asegurar sus derechos de propiedad intelectual de manera más rápida y reducirá los retrasos en la comercialización de nuevas innovaciones”, dijo.
Por su parte el Director Ejecutivo del CNR, Camilo Trigueros, dijo que «Este es un día histórico para el CNR, contar con la presencia del Sr. Embajador de los EEUU en El Salvador, William Duncan y suscribir un memorando de entendimiento que impulsará la innovación tecnológica y el desarrollo económico por medio de la aceleración en la concesión de patentes».
Según el proceso Otorgamiento Acelerado de Patentes, un solicitante de patente elegible que haya recibido una patente de EE. UU. por parte de la USPTO puede solicitar que el CNR otorgue una patente correspondiente en El Salvador en cualquier momento durante su procesamiento y sujeto a las leyes de patentes en El Salvador.